4 月 7 日消息，韩媒 Sedaily 当地时间 6 日报道称，三星电子已为平泽半导体生产基地 P5 晶圆厂集群的首个阶段 PH1 订购了 70 余台光刻机，为该阶段 2027 年的投运做好准备。
平泽 P5 PH1 所需的这些光刻机来自 ASML 和佳能，其中约 20 台为 ASML 的 EUV 曝光系统。P5 PH1 将用于 1c nm 制程 DRAM 生产，将同时制造通用内存和 HBM。
三星电子预计将从 2027Q2 开始为平泽 P5 PH1 安装图案化设备，届时该阶段的洁净室施工也将完成，有望在 2027 年内对产能带来有意义的贡献，满足英伟达 "Rubin" 与其它 AI XPU 的需求，纾解当前 DRAM 市场的供应紧张态势。
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