阿斯麦 ASML 公布 EUV 光源技术突破,2030 年芯片产能有望提升 50% 2026-02-23 23:43:06 科技热搜 作者:IT之家 热度:125 标签: 阿斯 麦 ASML 公布 EUV 光源 技术 突破 2030 年 芯片 产能 有望 提升 50 上一篇:空中客车:2025 年收入 734 亿欧元同比增长 6%,民用飞机储备订单 8754 架创纪录 下一篇:Taara 推出基于不可见光束的城市宽带方案:最高 25Gbps,号称“媲美光纤” 相关推荐 阿斯麦 ASML 公布 EUV 光源技术突破,2030 年芯片产能有望提升 50% 不止 EUV 光刻机:阿斯麦 ASML 计划进军先进封装赛道,深耕 AI 芯片设备 消息称阿斯麦 ASML 新一代 EUV 光刻机已具备量产条件,单台成本约 4 亿美元 有望创造历史,2026 年芯片产业首度冲破万亿美元大关 消息称 SK 海力士加速引进 ASML EUV 光刻机,有望两年内部署数量翻倍 中科院成功研发全固态DUV光源技术 突破193nm激光技术 光刻机巨头 ASML 阿斯麦 2026 年第一季度净利润 27.57 亿欧元,同比增长 17.07% 郭明錤:阿斯麦可能将EUV设备出货量预测大幅下调约20-30%