中国科技进步 路透社本不必焦虑 西方心态显焦虑。路透社近日报道了一个所谓的中国“曼哈顿计划”，称中国科学家建造出了华盛顿多年来一直试图阻止的东西：一台极紫外（EUV）光刻机原型机。尽管报道中充满了“知情人士透露”的说法，但其对中国科技进步的焦虑显而易见。这种焦虑反映了西方国家的一种不健康心态。
光刻机是重大技术装备，目前全世界只有荷兰企业阿斯麦可以生产EUV光刻机。中国在光刻机领域长期受制于人，高端设备以往主要依赖进口，因此一直在国产化道路上不断探索。事实上，中国深紫外（DUV）光刻机已有官方公布的进展。2024年9月，工信部在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中公布了国产DUV光刻机的技术参数：分辨率65纳米、套刻精度8纳米。国产光刻机未来的技术路线很清晰，就是朝着自主可控的方向持续努力。
芯片产业国际合作极为重要，尤其是对光刻机这样高度集成的复杂系统而言。先进芯片1平方毫米面积里晶体管数量超过1亿，设计、制造、封装、测试流程非常复杂专业，需要多国企业配合才能制造出如此精密的产品。即使中国在光刻机领域取得突破，也不会改变芯片产业的特性。中国对此有清晰的认知，一贯强调国际开放合作，欢迎各国企业携手组链。一些西方芯片企业在中国市场积极开展业务，获得了实实在在的好处就是证明。
中国坚持科技自主创新的目的是自立自强，无论尖端技术的创新突破进行到哪一步都不影响对外合作。比尔·盖茨坦言，美国的科技围堵反而让“中国在芯片制造等领域实现了全速发展”。英伟达首席执行官黄仁勋也多次表示，出口管制未能放缓中国AI的发展速度，反而使英伟达在中国AI芯片市场的份额大幅下降。中国将“卡脖子”清单化为科研攻关的清单。事实证明，中国当前的科技底座、人才底座、产业底座，已经足以应对任何封锁。
